회사 소식 인프라 보호: 부식 방지를 위한 화학물질 주입

인프라 보호: 부식 방지를 위한 화학물질 주입

부식은 금속이 주변 환경과 접촉하면서 화학적 또는 전기화학적 과정에 의해 점차적으로 파괴되는 자연적인 과정입니다.일반적인 부식 원인은 pH, CO2, H2S, 염화물, 산소 및 박테리아입니다.석유나 가스는 황화수소(H2S)의 농도가 평소보다 높을 때 "신맛"이라고 합니다.산소는 주입정(EOR)에서 매우 문제가 됩니다.이미 농도가 매우 낮으면 부식률이 높아집니다.이 경우 산소 제거제가 사용됩니다.

박테리아는 혐기성 조건에서 파이프와 탱크 내부에서 자랄 수 있으며, 이로 인해 고농도의 H2S가 생성됩니다.이로 인해 구멍이 생기고 심각해질 수 있습니다.박테리아 축적은 주로 저속 응용 분야에서 발생합니다.부식을 일으키는 다른 요인으로는 온도, 마모, 압력, 속도 및 고형물의 존재 등이 있습니다.

우리는 다음과 같은 일반적인 부식 유형을 알고 있습니다.

1. 국부부식 : 공식, 틈새부식, 사상부식

2. 갈바니 부식

3. 일반적인 공격 부식

4. 유동에 의한 부식, FAC

5. 입계부식

6. 탈합금

7. 환경 균열: 응력, 피로, H2 유발, 액체 금속 취성

8. 프레팅 부식

9. 고온 부식

부식을 제어하려면 다음 조치를 고려하는 것이 중요합니다.

올바른 재료를 구체적으로 선택하십시오.야금 전문가는 어떤 금속을 사용하는 것이 가장 좋은지 정의합니다.

또한 코팅과 페인팅도 잘 선택할 수 있는 관련 주제입니다.

파이프의 속도를 높이거나 낮추기 위해 생산량을 조정합니다.

유체에 입자가 존재하는 경우 기구 및 파이프의 수명 동안 감소하는 것이 더 나을 수 있습니다.

pH 조절, 염화물량 감소, 산소 및 박테리아 제거, 화학물질 주입으로 금속 산화 속도 감소.

유체가 들어가야 하는 파이프라인이나 용기의 압력을 조절하는 효과적이고 최상의 화학 물질 구성입니다.